实验室多弧离子镀镀膜仪

       本产品是专为实验室表面改性与硬质薄膜制备需求研发的高性能设备，以 “多弧高效、膜层致密、真空洁净、易操作适配” 为核心定位，兼顾小型化设计与科研实用性，完美适配高校、科研院所及企业实验室的多样化镀膜场景，为金属、陶瓷、合金等基材提供稳定可靠的表面镀膜硬件支撑。
主要特点：
1. 多弧离子高效沉积：多弧靶材配置，离化率高、沉积速率快，可制备金属、氮化物、碳化物等硬质膜层，膜层致密、附着力强，耐磨耐腐蚀；
2. 高真空洁净镀膜：高真空腔体设计，有效隔绝外界杂质污染，减少气体干扰，保障膜层纯度，避免氧化缺陷，适配实验室高端镀膜工艺；
3. 便捷易控操作：触控屏操作 + 镀膜工艺预设，支持多组参数存储与调用，简化操作流程，降低学习门槛，新手可快速上手，减少人为操作误差；
4. 实验室适配设计：小型化腔体结构，体积紧凑、占用空间小，维护便捷，适配各类实验室台面摆放，靶材更换简单，适配科研实验需求；
5. 应用场景广泛：可将功能性薄膜镀覆于刀具、模具、光学元件、电子元器件等基材，广泛应用于材料科学、机械工程、光电元件等领域的表面改性实验。