带过渡仓的四靶磁控溅射镀膜仪

      本产品是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸3英寸4英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为500W直流电源和500W射频电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备，四个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要，可以定制其他射频电源和脉冲电源，各型电源均有300W到1000W多种规格可选.

    设备具有主腔室和过渡舱两部分，过渡舱配有磁力推杆，两个舱室之间装有真空闸板阀；用户可以在主腔室进行溅射工作的同时，在过渡舱装填样品，并进行真空预抽，待主腔室溅射完成后即可将样品通过磁力推杆推入主腔室的样品台。这样的设计能够减少主腔室抽放真空的次数，不仅能有效节省时间，更能保证更好的本地真空，有效提高镀膜质量
      本产品可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该四靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备高真空环境，整个蒸发过程在高真空环境中进行，确保了蒸发原子或分子直接到达基板，避免了空气中杂质的污染，提高了薄膜的质量。高真空条件还有助于减少蒸发材料的氧化，进一步提升了薄膜的纯度和性能。