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本产品是专为实验室高阶研发、小型样品精准双源蒸发镀膜场景研发的高性能沉积设备,以双源独立蒸发、精准镀膜调控、桌面级便捷设计、PLC智能触控操控为核心定位,作为轻量化蒸镀解决方案,兼顾沉积专业性、操作便捷性与运行稳定性,依托双源独立调控与精准蒸发技术优势,适配多种小型样品的复合膜、多层膜制备需求,广泛应用于实验室小样研发、小批量试制、半导体器件小型复合薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面改性、科研微型试样多层镀膜等高阶实验需求,是实验室桌面级、高精度双源蒸发镀膜试验的核心设备,为科研实验与高精度小型样品复合镀膜制备提供高效、精准、洁净的一体化解决方案。
主要特点:
1. 双源独立蒸发,适配复合镀膜需求:核心搭载两套独立供电蒸发源,可灵活实现交替开启、同步运行两种工作模式,满足多样蒸镀工艺需求;可实现两种不同材质的独立蒸发、同步蒸发或分步蒸发,灵活调控两种蒸发源的温度、速率,轻松制备多层膜、复合膜,解决单源蒸发无法实现多材质复合镀膜的痛点,满足实验室高阶科研对复合薄膜、多层薄膜的制备需求;
2. 精准蒸发镀膜,膜层质量出众:采用先进精准蒸发镀膜技术,单蒸发源可稳定输出可达100A镀膜电流,蒸发温度高达1800℃,温控与电流输出性能稳定,适配性强;可分别灵活调控双蒸发源的蒸发温度、速率与镀膜时间,实现膜层厚度、均匀性的精准控制,制备的膜层附着力强、致密度高,层间结合紧密,有效避免膜层针孔、脱落、分层等缺陷,保障薄膜性能稳定,满足实验室高阶科研对镀膜精度的严苛要求;
3. 桌面级小巧设计,省空间易摆放:专为实验室桌面场景优化设计,机身精简、体积小巧、重量轻便,可直接放置于常规实验室工作台,无需专门预留安装空间,适配各类实验室桌面布局,尤其适合空间有限的高校实验室、小型科研机构,灵活不占地,兼顾双源功能与桌面便捷性;
4. PLC智能触控,操作高效便捷:搭载升级款PLC智能控制系统,全程采用高清触摸屏操作,界面简洁直观、功能分区清晰,支持双源镀膜参数分别记忆、程序预设、故障报警、双蒸发源功率一键调节等功能,可预设多种常用双源蒸发镀膜程序,操作流程便捷,无需复杂培训即可快速上手,适配实验室科研人员、专业操作人员;
5. 多场景适配,应用范围广泛:可充分满足各类常见金属材料的蒸镀作业,同时兼容部分非金属材料蒸镀需求,适配金属、氧化物、半导体等多种材质的小型样品镀膜,广泛应用于实验室小样研发、小批量试制、半导体器件小型复合薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面改性、微型试样多层镀膜等高阶实验场景,同时支持惰性气体辅助保护,进一步拓展设备应用价值;
6. 稳定耐用,维护便捷省心:整体结构优化设计,核心双蒸发部件、镀膜腔体、温控系统选用高品质元器件,运行稳定无故障,抗干扰能力强,可长期连续运行,适配实验室高频次桌面级双源蒸发镀膜实验使用;日常维护简单便捷,无需专业人员运维,定期常规检查、清洁腔体与双蒸发部件即可保障设备正常运转,大幅降低实验室设备维护成本。
| 样品台 | 外形尺寸 | 直径φ60mm |
| 转速 | ≦20rpm | |
| 至蒸发源间距 | 60~100mm 连续可调 | |
| 热蒸发源 | 配 2 个钨舟、2个钨丝篮 | |
| 蒸发电源 | 2个,每个蒸发源均配挡板 | |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | 直径φ170mm,高度210mm |
| 观察窗口 | 直径φ60mm | |
| 腔体材质 | 304不锈钢 | |
| 开启方式 | 上开启式 | |
| 膜厚测量 | 晶体膜厚测量仪(也可选膜厚控制仪) | |
| 真空系统 | 前级泵 | 双极旋片泵,气体抽速1.1L/S |
| 次级泵 | 涡轮分子泵,气体抽速600L/S | |
| 真空测量 | 复合真空计(电离规+电阻规) | |
| 系统真空 | 5×10-4Pa | |
| 控制系统 | 自研专业级控制器 | |
| 其他参数 | 供电电源 | AC220V,50Hz |
| 整机尺寸 | 600mm×600mm×750mm | |
| 整机功率 | 1200W | |
| 整机重量 | 40kg |
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关键词: 桌面型双源蒸发镀膜仪
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