桌面型双源蒸发镀膜仪

所属分类: 薄膜制备

产品型号:HYXK-EVZ170-Ⅱ-H-SS

本产品是实验室高阶专用高性能沉积设备,作为轻量化蒸镀解决方案,采用双源独立蒸发(两套独立供电)、精准蒸发镀膜技术与PLC智能触摸屏控制系统,单源可输出100A电流、1800℃高温,沉积精准、操作高效,可实现复合膜、多层膜高效沉积,适配金属及部分非金属蒸镀,广泛应用于实验室小样研发、小批量试制等场景,是实验室桌面级高精度双源蒸发镀膜的核心优选设备。

产品简述

技术参数

产品视频

留言咨询

       本产品是专为实验室高阶研发、小型样品精准双源蒸发镀膜场景研发的高性能沉积设备,以双源独立蒸发、精准镀膜调控、桌面级便捷设计、PLC智能触控操控为核心定位,作为轻量化蒸镀解决方案,兼顾沉积专业性、操作便捷性与运行稳定性,依托双源独立调控与精准蒸发技术优势,适配多种小型样品的复合膜、多层膜制备需求,广泛应用于实验室小样研发、小批量试制、半导体器件小型复合薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面改性、科研微型试样多层镀膜等高阶实验需求,是实验室桌面级、高精度双源蒸发镀膜试验的核心设备,为科研实验与高精度小型样品复合镀膜制备提供高效、精准、洁净的一体化解决方案。
主要特点:
1. 双源独立蒸发,适配复合镀膜需求:核心搭载两套独立供电蒸发源,可灵活实现交替开启、同步运行两种工作模式,满足多样蒸镀工艺需求;可实现两种不同材质的独立蒸发、同步蒸发或分步蒸发,灵活调控两种蒸发源的温度、速率,轻松制备多层膜、复合膜,解决单源蒸发无法实现多材质复合镀膜的痛点,满足实验室高阶科研对复合薄膜、多层薄膜的制备需求;
2. 精准蒸发镀膜,膜层质量出众:采用先进精准蒸发镀膜技术,单蒸发源可稳定输出可达100A镀膜电流,蒸发温度高达1800℃,温控与电流输出性能稳定,适配性强;可分别灵活调控双蒸发源的蒸发温度、速率与镀膜时间,实现膜层厚度、均匀性的精准控制,制备的膜层附着力强、致密度高,层间结合紧密,有效避免膜层针孔、脱落、分层等缺陷,保障薄膜性能稳定,满足实验室高阶科研对镀膜精度的严苛要求;
3. 桌面级小巧设计,省空间易摆放:专为实验室桌面场景优化设计,机身精简、体积小巧、重量轻便,可直接放置于常规实验室工作台,无需专门预留安装空间,适配各类实验室桌面布局,尤其适合空间有限的高校实验室、小型科研机构,灵活不占地,兼顾双源功能与桌面便捷性;
4. PLC智能触控,操作高效便捷:搭载升级款PLC智能控制系统,全程采用高清触摸屏操作,界面简洁直观、功能分区清晰,支持双源镀膜参数分别记忆、程序预设、故障报警、双蒸发源功率一键调节等功能,可预设多种常用双源蒸发镀膜程序,操作流程便捷,无需复杂培训即可快速上手,适配实验室科研人员、专业操作人员;
5. 多场景适配,应用范围广泛:可充分满足各类常见金属材料的蒸镀作业,同时兼容部分非金属材料蒸镀需求,适配金属、氧化物、半导体等多种材质的小型样品镀膜,广泛应用于实验室小样研发、小批量试制、半导体器件小型复合薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面改性、微型试样多层镀膜等高阶实验场景,同时支持惰性气体辅助保护,进一步拓展设备应用价值;
6. 稳定耐用,维护便捷省心:整体结构优化设计,核心双蒸发部件、镀膜腔体、温控系统选用高品质元器件,运行稳定无故障,抗干扰能力强,可长期连续运行,适配实验室高频次桌面级双源蒸发镀膜实验使用;日常维护简单便捷,无需专业人员运维,定期常规检查、清洁腔体与双蒸发部件即可保障设备正常运转,大幅降低实验室设备维护成本。

样品台 外形尺寸 直径φ60mm
转速 ≦20rpm
至蒸发源间距 60~100mm 连续可调
热蒸发源 配 2 个钨舟、2个钨丝篮  
蒸发电源 2个,每个蒸发源均配挡板  
真空腔体 腔体尺寸 直径φ170mm,高度210mm
观察窗口 直径φ60mm
腔体材质 304不锈钢
开启方式 上开启式
膜厚测量 晶体膜厚测量仪(也可选膜厚控制仪)  
真空系统 前级泵 双极旋片泵,气体抽速1.1L/S
次级泵 涡轮分子泵,气体抽速600L/S
真空测量 复合真空计(电离规+电阻规)
系统真空 5×10-4Pa
控制系统 自研专业级控制器  
其他参数 供电电源 AC220V,50Hz
整机尺寸 600mm×600mm×750mm
整机功率 1200W
整机重量 40kg

您可以通过任何方便的方式与我们联系,我们通过电话或电子邮件提供全天候服务。我们很乐意回答您的问题

%{tishi_zhanwei}%

免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司客服人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,公司不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。

关键词: 桌面型双源蒸发镀膜仪