电子束蒸发镀膜仪
所属分类： 材料研究（科研设备）
产品型号：HYXK-EVP500-EB
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本产品电子束蒸发镀膜仪是一种在高真空环境下，利用高能电子束轰击加热镀膜材料，使其熔融汽化后沉积在基片表面形成薄膜的精密镀膜设备。它通过电子枪发射电子束聚焦于靶材，实现局部高温蒸发，配合真空系统避免材料氧化与污染，是半导体、光学及微纳器件制备的核心装备。
该设备主要用于制备高质量单层或多层薄膜，可蒸镀金属、氧化物、介质等多种材料，广泛应用于半导体电极、导电层、绝缘层、光学增透膜、保护膜以及传感器、太阳能电池、显示器件的功能膜制备，满足高精度微纳加工需求。
其特性优点：
1. 是膜层纯度高，真空环境下杂质少、无氧化夹杂；
2. 是成膜致密均匀，附着力强，缺陷率低，电学与光学性能稳定；
3. 是膜厚控制精准，可实现纳米级厚度调控，重复性好；
4. 是适用材料范围广，对高熔点材料同样适用；
5. 是对基底热损伤小，工艺清洁环保，适合敏感器件与高端精密镀膜。
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使用条件 |
环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar |
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真空室尺寸 |
蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜) |
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电子枪 |
新型电子枪1套，6穴坩埚 |
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样品转盘 |
样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃ |
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系统真空度 |
极限真空 |
经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa |
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抽气速率 |
从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa |
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系统漏率 |
整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa |
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抽真空系统 |
FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气 |
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镀膜监测 |
采用SQM160膜厚仪进行监测 |
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镀膜厚度 |
镀膜厚度的不均匀度≤6% |
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