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本产品在超高真空环境中，电子枪产生高能电子束，经电磁聚焦与偏转精准轰击水冷坩埚中的靶材，将动能转化为局部高温，使靶材瞬间蒸发 / 升华；气态原子 / 分子在真空中直线飞行，到达低温衬底表面冷凝、成核、生长，形成连续致密薄膜。
其特性优点：
1. 膜层纯度高 ：高真空环境下蒸发沉积，避免氧化与杂质污染，膜层洁净度高，满足半导体严苛要求。
2. 成膜质量优异 ：电子束能量集中，膜层致密度高、附着力强、均匀性好，缺陷少、稳定性高。
3. 材料适用性广：可蒸镀金属、介质、氧化物等多种材料，适配半导体电极、绝缘层、钝化层制备。
4. 膜厚控制精准：可实现纳米级精确控厚，重复性好，适合高精度微纳器件制备。
5. 工艺洁净环保：无废液废气，热影响小，对基底损伤低，适合敏感半导体材料与精密器件加工。
| 样品台 | 外形尺寸 | <150mm，样品台可旋转 |
| 可调温度 | ≦500℃ | |
| 电子枪 | 新型电子枪，6孔坩埚 | |
| 加热灯 | 4只卤素加热灯用于除气，1个氖灯用于照明 | |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | Φ500*H500mm |
| 观察窗口 | 直径φ100mm | |
| 腔体材质 | 304不锈钢 | |
| 开启方式 | 前开门式 | |
| 膜厚测量 | 采用SQM160膜厚仪进行监控，涂层厚度不均匀度小于6%。 | |
| 真空系统 | 前级泵 | 双极旋片泵，气体抽速1.1L/S |
| 次级泵 | 涡轮分子泵,气体抽速600L/S | |
| 真空测量 | 复合真空计(电离规+电阻规) | |
| 系统真空 | 5×10-5Pa | |
| 水冷系统 | 水压<2.5bar 水压监测 | |
| 加热灯 | 4只卤素加热灯用于除气，1个氖灯用于照明 | |
| 电极接口 | 带2路金属蒸发电极接口 | |
| 控制系统 | HYXK自研专业级控制器 | |
| 其他参数 | 供电电源 | AC380V,50Hz |
| 整机尺寸 | 1000mm×800mm×1500mm | |
| 整机功率 | 20KW | |
| 整机重量 | 350kg | |
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关键词： 半导体薄膜电子束蒸发镀膜仪
