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本产品在超高真空环境中：
电子枪灯丝（钨 / LaB₆）受热发射热电子。
电子经10–30 kV 高压加速，并通过电磁聚焦 + 270° 磁偏转，形成高能、精准的电子束。
电子束轰击水冷铜坩埚内的靶材，局部瞬间产生 3000–6000℃ 高温，使靶材熔化 / 升华成气态原子 / 分子。
气态粒子在真空中直线飞行，沉积到旋转 / 加热的基片表面，凝结成均匀、致密的薄膜。
全程由石英晶振实时监控膜厚与沉积速率（0.1–10 nm/s），实现闭环控制。
| 使用条件 | 环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar | |
| 真空室尺寸 | 蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜) | |
| 电子枪 | 新型电子枪1套，6穴坩埚 | |
| 样品转盘 | 样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃ | |
| 系统真空度 | 极限真空 | 经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa |
| 抽气速率 | 从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa | |
| 系统漏率 | 整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa | |
| 抽真空系统 | FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气 | |
| 镀膜监测 | 采用SQM160膜厚仪进行监测 | |
| 镀膜厚度 | 镀膜厚度的不均匀度≤6% | |
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关键词： 电⼦束蒸发镀膜仪
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