高真空电子束蒸发镀膜仪

所属分类: 薄膜制备

产品型号:HYXK-EBH500-SS

本产品主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜

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       本产品是专为高精度、高纯度薄膜制备研发的高端设备,融合电子束蒸发技术与高真空系统,兼顾实验室研发与小批量生产需求,广泛应用于半导体、光学、新能源等领域,为金属、氧化物、陶瓷等多种材料的薄膜沉积提供稳定可靠的硬件支撑。
主要特点:
1. 高真空保障:搭载高效真空抽气系统,真空度高、密封性强,有效隔绝杂质干扰,确保膜层纯度,避免氧化污染。
2. 电子束精准控制:电子枪聚焦精准、能量集中,可实现对高熔点材料的稳定蒸发,膜层均匀致密、附着力强,减少缺陷。
3. 智能便捷操作:触控式操作界面,支持工艺参数预设、存储与调用,操作简单,降低人为误差,适配科研与生产场景。
4. 适配性强:兼容多种镀膜材料,可制备单层、多层复合膜,满足不同科研与生产需求,结构紧凑、维护便捷。

项目 明细
样品台 外形尺寸 <150mm,样品台可旋转
可调温度 ≦500℃
电子枪 新型电子枪,6孔坩埚
加热灯 4只卤素加热灯用于除气,1个氖灯用于照明
真空腔体 腔体尺寸 Φ500*H500mm
观察窗口 直径φ100mm
腔体材质 304不锈钢
开启方式 前开门式
膜厚测量 采用SQM160膜厚仪进行监控,涂层厚度不均匀度小于6%。
真空系统 前级泵 双极旋片泵,气体抽速1.1L/S
次级泵 涡轮分子泵,气体抽速600L/S
真空测量 复合真空计(电离规+电阻规)
系统真空 5×10-5Pa
水冷系统 水压<2.5bar 水压监测
加热灯 4只卤素加热灯用于除气,1个氖灯用于照明
电极接口 带2路金属蒸发电极接口
控制系统 CYKY自研专业级控制器
其他参数 供电电源 AC380V,50Hz
整机尺寸 1000mm×800mm×1500mm
整机功率 20KW
整机重量 350kg

您可以通过任何方便的方式与我们联系,我们通过电话或电子邮件提供全天候服务。我们很乐意回答您的问题

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关键词: 高真空电子束蒸发镀膜仪

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