双靶等离子溅射镀膜仪

       本产品专为实验室多组分薄膜制备需求研发的高性能设备，以 “多靶兼容、成膜精密、稳定易控” 为核心定位，兼顾科研级精度与实用性，完美适配高校、科研院所及企业实验室的多样化镀膜实验场景，为各类金属、合金及化合物薄膜制备提供稳定可靠的硬件支撑。

主要特点：

1. 双靶设计领先：搭载双独立靶位等离子溅射系统，支持单靶连续溅射、双靶共溅射或交替镀膜，可灵活制备多层膜、合金膜、复合功能膜，大幅拓展实验工艺多样性；
2. 成膜精密高效：配备稳定等离子电源与高精度真空控制系统，等离子激发均匀、溅射过程平稳无波动，成膜致密均匀、附着力强，可精准保障薄膜厚度与性能一致性；
3. 便捷易控操作：触控屏操作 + 多组镀膜工艺曲线预设，简化操作流程，降低学习门槛，新手可快速上手，减少人为操作误差；
4. 实验室适配优化：模块化紧凑结构设计，体积适中、坚固耐用，占用空间合理，维护便捷，适配各类实验室台面摆放与科研、教学场景；
5. 应用广泛：可制备金属、合金、氧化物、氮化物等各类功能薄膜，广泛应用于半导体器件、光学涂层、传感器、新能源材料、表面改性等领域。