三靶等离子溅射镀膜仪

      本产品专为实验室高端多组分、多层薄膜制备需求研发的高性能设备，以 “多靶协同、成膜精密、功能全面” 为核心定位，兼顾科研级精度与实用性，完美适配高校、科研院所及企业实验室的高端科研、小批量制备等多样化场景，为各类金属、合金、化合物复合薄膜制备提供稳定可靠的硬件支撑。

主要特点：

1. 三靶协同设计：搭载三组独立靶位等离子溅射系统，支持单靶独立溅射、双靶共溅射、三靶交替 / 共溅射，可灵活实现多层膜、合金膜、复合功能膜的精准制备，大幅拓展实验工艺范围与多样性；
2. 精密成膜保障：配备稳定等离子激发电源与高精度真空控制系统，等离子体密度均匀、溅射过程平稳无波动，成膜致密均匀、附着力强，精准控制薄膜厚度与性能一致性，满足高端科研实验要求；
3. 便捷易控操作：触控屏智能操作 + 多组可存储工艺曲线，支持参数精准调节，简化复杂镀膜流程，降低学习门槛，新手可快速上手，减少人为操作误差，提升实验效率；
4. 实验室适配优化：模块化紧凑结构，体积适中、坚固耐用，占用空间合理，维护便捷，运行噪音低，适配各类实验室台面摆放，兼顾科研实验与教学演示需求；
5. 应用场景广泛：可制备金属、合金、氧化物、氮化物等各类功能薄膜，广泛应用于半导体器件研发、光学涂层制备、传感器研发、新能源材料研究、材料表面改性等高端科研领域。