高真空多弧离子镀膜仪
所属分类： 材料研究（科研设备）
产品型号：HYXK-MIOP500
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本产品是专为高纯度、高性能硬质薄膜制备需求研发的高真空多弧离子镀膜仪，以 “高真空洁净、多弧离子高效、膜层致密耐用、便捷易操作” 为核心定位，兼顾实验室研发与小批量生产实用性，完美适配高校、科研院所及企业的镀膜场景，为金属、陶瓷、合金等基材提供稳定可靠的表面改性硬件支撑。
主要特点：
1. 高真空洁净镀膜：高真空腔体设计，有效隔绝外界杂质污染，减少气体干扰，保障膜层纯度，避免氧化缺陷，适配高端镀膜工艺需求；
2. 多弧离子高效沉积：多弧靶材配置，离化率高、沉积速率快，可制备金属、氮化物、碳化物等硬质膜层，膜层致密、附着力强、耐磨耐腐蚀；
3. 便捷易控操作：触控屏操作 + 镀膜工艺预设，支持多组参数存储与调用，简化操作流程，降低学习门槛，新手可快速上手，减少人为操作误差；
4. 场景适配广泛：适配金属、陶瓷、玻璃等各类基材，可制备耐磨、耐蚀、装饰等功能性薄膜，广泛应用于刀具、模具、光学元件、电子元器件等领域；
5. 稳定耐用易维护：腔体结构坚固耐用，靶材更换便捷，维护简单，适配长期高频次使用，保障设备稳定运行。
| 项目 | 明细 | |
| 1. 真空腔室 | Ф500×H420mm，304 **不锈钢，前开门结构； 腔室加热温度：室温～350±1℃； | |
| 2.真空系统 | 复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门组合的高真空系统，数显复合真空计； | |
| 3.真空极限 | 优于 6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）； | |
| 4.漏率 | 设备升压率≤0.8Pa/h； | |
| 设备保压：停泵 12 小时候后，真空≤10Pa； | ||
| 5.抽速 | (空载）从大气抽至 5.0×10-3Pa≤15min； | |
| 6.基片台尺寸 | Φ150mm，自转工位 3 个； | |
| 7.基片台旋转 | 基片旋转：0～20 转/分钟； | |
| 8.溅射靶 | DN100 新型磁过滤多弧靶 2 套 | |
| 9.脉冲偏压电源 | -1000V，1 套； | |
| 11.控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统； | |
| 12.报警及保护 | 对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善 的逻辑程序互锁保护系统； | |
| 13.占地 | (主机）L1900×W800×H1900(mm)。 | |
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