桌面型不锈钢腔体蒸发镀膜仪

所属分类: 蒸发镀膜仪

产品型号:HYXK-EVZ254-II-HH-SS

本产品是实验室高阶专用高性能沉积设备,采用不锈钢密封腔体、精准蒸发镀膜技术与PLC智能触摸屏控制系统,沉积精准、操作高效,可实现优质薄膜高效沉积与基材保护双重优势,广泛应用于半导体器件小型薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料钝化,是实验室桌面级高精度蒸发镀膜的核心优选设备。

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       本产品是专为实验室高阶研发、小型样品精准蒸发镀膜场景研发的高性能沉积设备,以不锈钢密封腔体、精准蒸发镀膜、桌面级便捷设计、PLC智能触控操控为核心定位,兼顾沉积专业性、操作便捷性与运行稳定性,依托不锈钢腔体的高密封性与精准蒸发技术优势,适配多种小型样品的薄膜制备需求,广泛应用于半导体器件小型薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面钝化、科研微型试样镀膜等高阶实验需求,是实验室桌面级、高精度蒸发镀膜试验的核心设备,为科研实验与高精度小型样品镀膜制备提供高效、精准、洁净的一体化解决方案。
主要特点:
1. 不锈钢密封腔体,防护性能优异:采用高品质不锈钢打造镀膜腔体,密封性强、耐腐蚀、耐高温,可有效隔绝空气杂质,保障镀膜环境的洁净度,避免样品与膜层氧化,同时提升腔体耐用性,适配长期高频次实验使用,兼顾洁净镀膜与设备使用寿命;
2. 精准蒸发镀膜,膜层质量出众:采用先进精准蒸发镀膜技术,可灵活调控蒸发温度、速率与镀膜时间,实现膜层厚度、均匀性的精准控制,制备的膜层附着力强、致密度高,有效避免膜层针孔、脱落等缺陷,保障薄膜性能稳定,满足实验室高阶科研对镀膜精度的严苛要求;
3. 桌面级小巧设计,省空间易摆放:专为实验室桌面场景优化设计,机身精简、体积小巧、重量轻便,可直接放置于常规实验室工作台,无需专门预留安装空间,适配各类实验室桌面布局,尤其适合空间有限的高校实验室、小型科研机构,灵活不占地;
4. PLC智能触控,操作高效便捷:搭载升级款PLC智能控制系统,全程采用高清触摸屏操作,界面简洁直观、功能分区清晰,支持镀膜参数记忆、程序预设、故障报警、蒸发功率一键调节等功能,可预设多种常用蒸发镀膜程序,操作流程便捷,无需复杂培训即可快速上手,适配实验室科研人员、专业操作人员;
5. 多场景适配,应用范围广泛:可适配金属、氧化物、半导体等多种材质的小型样品镀膜,广泛应用于半导体器件小型薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面钝化、微型试样镀膜等高阶实验场景,同时支持惰性气体辅助保护,进一步拓展设备应用价值;
6. 稳定耐用,维护便捷省心:整体结构优化设计,核心蒸发部件、不锈钢腔体、温控系统选用高品质元器件,运行稳定无故障,抗干扰能力强,可长期连续运行,适配实验室高频次桌面级蒸发镀膜实验使用;日常维护简单便捷,无需专业人员运维,定期常规检查、清洁腔体与蒸发部件即可保障设备正常运转,大幅降低实验室设备维护成本。

参数名称 参数说明
真空腔体 腔体材质 304不锈钢焊接而成,表面做抛光处理
取放模式 前开门方式取放样品和蒸镀材料
观察窗 直径80mm真空窗口,配有磁力挡板,防止污染
样品台 样品尺寸 直径≦100mm的平面样品均可
旋转速度 分不旋转和旋转型(0-20RPM)
加热温度 ≦1800℃
蒸发系统 蒸发源 钨丝篮或坞舟  1个
样品台蒸发源距离 60-100mm 可调
镀膜方式 热蒸发镀膜
真空系统 抽气接口:KF25/40, 排气接口: KF16
复合真空计,电阻规+电离规
前级泵 旋片泵  抽速: 1.1L/S
分子泵 抽速: 62L/S (大阪分子泵)
膜厚测量 通常自有膜厚测量仪  (可选)
也可选配进口品牌,价格额外计算
供电电压 AC220V,50Hz
整机功率 2KW
外形尺寸 750mm X 450mm X750mm 
包装重量 70 KG

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