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本产品是专为实验室多元素薄膜制备需求研发的高性能设备，以 “成膜均匀、靶材兼容广、稳定易控” 为核心定位，兼顾科研精度与实用性，完美适配高校、科研院所及企业实验室的多样化实验场景，为各类金属、氧化物、半导体薄膜制备提供稳定可靠的硬件支撑。
主要特点：
- 双靶设计领先：搭载双独立靶位系统，可实现单靶连续溅射、双靶共溅射或交替溅射，支持多组分、多层薄膜制备，大幅拓展实验工艺多样性；
- 精密高效成膜：配备高精度真空控制系统与稳定直流 / 射频电源，溅射过程稳定可控，靶材利用率高，成膜均匀性与致密度优异，可满足各类精密镀膜实验需求；
- 便捷易控操作：触控屏操作 + 预设工艺曲线，简化镀膜流程，降低学习门槛，新手可快速上手，减少人为操作误差；
- 实验室适配性强：小型化模块化结构设计，体积紧凑、坚固美观，占用空间小，维护便捷，适配各类实验室台面摆放与腔体安装；
- 应用广泛：可制备金属、合金、氧化物、氮化物等各类薄膜，广泛应用于半导体器件、光学涂层、传感器、新能源材料、表面改性等领域。
| 项目 | 明细 | |
| 供电电压 | AC220V，50Hz | |
| 整机功率 | 6KW | |
| 系统真空 | ≦5×10-4Pa | |
| 样品台 | 外形尺寸 | φ150mm |
| 加热温度 | ≦600℃ | |
| 控温精度 | ±1℃ | |
| 可调转速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶枪 | 靶材尺寸 | 直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
| 冷却模式 | 循环水冷 | |
| 水流大小 | 不小于10L/Min | |
| 数量 | 2 | |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | 直径φ325mm，高度500mm |
| 腔体材质 | SUU304不锈钢 | |
| 观察窗口 | 直径φ100mm | |
| 开启方式 | 顶开式 | |
| 气体控制 | 1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM | |
| 真空系统 | 配分子泵系统1套，气体抽速600L/S | |
| 膜厚测量 | 可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å | |
| 溅射电源 | 配直流电源,功率500W，射频500W | |
| 控制系统 | 自研专业级控制系统 | |
| 设备尺寸 | 540mm×540mm×1000mm | |
| 设备重量 | 350kg | |
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关键词： 桌面型双靶磁控溅射镀膜仪
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