单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪

       本产品是一款基于物理气相沉积（PVD）技术的专业薄膜制备设备，采用单靶磁控溅射结合光纤绕丝技术，通过高压与磁场作用溅射高纯度靶材粒子，沉积于基底形成薄膜，适配科研与工业多场景使用。其主要用途是可制备各类高质量薄膜，广泛应用于微电子、光学、新能源等领域，可制作高反射/抗反射光学薄膜、半导体导电膜、太阳能电池及LED器件，还可制备防水防磨损等防护涂层。

主要特点：
1. 采用2英寸单靶磁控溅射头，配备水冷系统；真空腔体为304不锈钢材质（Φ213mm×307mm），搭配复合真空计保障纯净沉积环境；绕丝速度1-300r/min可调，整机功率2kw、供电AC220V 50Hz，电源自动匹配，操作便捷、运行稳定，保障镀膜精度与效率。
2. 膜层品质优异：制备的薄膜均匀致密、纯度高，附着力强，能满足高精度场景需求，适配多种基底材质。
3. 控制精准高效：融合光纤绕丝技术，可灵活调整靶基距离与溅射能量，精准控制薄膜厚度与组成，提升溅射速率和膜层质量。
4. 适用范围广泛：适配金属、合金等多种靶材，可满足光学、电子、防护等多领域薄膜制备需求，兼顾科研与工业应用场景。