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本产品是我公司自主研发的高性价比实验室专用磁控溅射镀膜设备，以标准化架构、模块化设计、定制化适配为核心，兼顾性能与便捷性，是实验室薄膜制备的优选装备。其广泛适配多领域实验需求，可高效制备单层或多层铁电、导电、合金、半导体、陶瓷、介质、光学、氧化物、硬质、聚四氟乙烯等各类薄膜，助力实验高效推进。
产品特点：
1. 靶材电源灵活适配，可选1/2英寸磁控靶，标配500W直流（适配金属膜）与射频（适配非金属膜）双电源，三靶设计轻松满足多层、多次镀膜需求，更可定制300W-1000W全规格电源，适配各类实验场景。
2. 气路真空系统卓越，标配两路高精度质量流量计（可定制至四路），搭配先进涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，支持不关泵取样，大幅节省实验时间、提升工作效率。
3. 操作便捷更省心，体积小巧易摆放，可选配一体机工控电脑，一键实现真空泵组、溅射电源等全功能操控，简化操作流程，降低实验门槛，适配各类实验室使用场景。
| 项目 | 明细 | |
| 供电电压 | AC220V，50Hz | |
| 整机功率 | 4KW | |
| 系统真空 | ≦5×10-4Pa | |
| 样品台 | 外形尺寸 | φ150mm |
| 加热温度 | ≦600℃ | |
| 控温精度 | ±1℃ | |
| 可调转速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶枪 | 靶材尺寸 | 直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
| 冷却模式 | 循环水冷 | |
| 水流大小 | 不小于10L/Min | |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | 直径φ500mm，高度420mm |
| 腔体材质 | SUU304不锈钢 | |
| 观察窗口 | 直径φ100mm | |
| 开启方式 | 前开式 | |
| 气体控制 | 1路质量流量计用于控制Ar流量 | |
| 真空系统 | 配分子泵系统1套，气体抽速600L/S | |
| 膜厚测量 | 可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å | |
| 溅射电源 | 直流电源功率500W*2 射频电源功率500W | |
| 控制系统 | 自研专业级控制系统 | |
| 设备尺寸 | 600mm×650mm×1280mm | |
| 设备重量 | 350kg | |
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关键词： 三靶磁控溅射镀膜仪
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