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本产品为带过渡舱三靶磁控溅射镀膜仪，是一款专业用于金属薄膜制备的精密设备，兼顾科研与实用需求，结构设计贴合实验室及相关产业应用场景，性能稳定可靠。其主要用途是可高效制备金属薄膜，广泛应用于电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等行业，同时适配实验室SEM样品制备，满足科研实验、新材料研发等多场景使用需求。
主要特点：
1. 多靶协同，适配多层镀膜：配备三支磁控靶及两套直流电源，可灵活制备多层导电金属膜，适配不同膜层制备需求，提升使用灵活性。
2. 双舱设计，高效省耗：采用主腔室与过渡舱分离结构，过渡舱配备磁力推杆，两舱间设真空闸板阀，可边溅射边装填样品并预抽真空，减少主腔室抽放真空次数，大幅节省时间。
3. 真空可控，提升镀膜品质：双舱独立真空设计，有效保障主腔室本地真空度，减少杂质干扰，显著提升薄膜致密度与均匀性，助力获得高品质镀膜效果。
| 样品台 | 外形尺寸 | Φ360mm |
| 可调转速 | 1-20rpm可调 | |
| 磁控靶枪 | 靶材平面 | 圆形平面靶 |
| 溅射真空 | 0.1Pa～3Pa | |
| 靶材直径 | 100～101.6mm | |
| 靶材厚度 | 3mm | |
| 绝缘电压 | >2000V | |
| 电缆规格 | SL-16 | |
| 靶头温度 | ≦65℃ | |
| 真空腔体 | 内壁处理 | 电解抛光 |
| 腔体尺寸 | Φ500mm × 500mm | |
| 腔体材料 | 304不锈钢 | |
| 观察窗口 | 石英窗口，直径φ100mm | |
| 开启方式 | 侧面开启 | |
| 气体控制 | 流量控制 | 质量流量计，量程0～100SCCM |
| 气体种类 | 可选氩气、氮气、氧气等多种气体 | |
| 调节阀类型 | 电磁调节阀 | |
| 调节阀静止状态 | 常闭 | |
| 测量线性度 | ±1.5%F.S | |
| 测量重复精度 | ±0.2%F.S | |
| 测量响应时间 | ≤8秒（T95） | |
| 工作压差范围 | 0.3MPa | |
| 阀体耐压 | 3MPa | |
| 工作环境温度 | （5～45）℃ | |
| 阀体材料 | 不锈钢316L | |
| 阀体漏率 | 1×10-8Pa.m3/s | |
| 管道接头 | 1/4″卡套接头 | |
| 输入输出信号 | 0～5V | |
| 供电电源 | ±15V（±5%）（＋15V 50mA, －15V 200mA） | |
| 外形尺寸mm | 130（宽）×102（高）×28（厚） | |
| 通讯接口 | RS485 MODBUS协议 | |
| 直流电源 | 电源功率 | 1500W |
| 膜厚测量 | 电源要求 | DC:5V（±10%） *大电流 400mA |
| 分辨率 | ±0.03Hz(5-6MHz),0.0136Å /测量(铝) | |
| 测量精度 | ±0.5%厚度+1计数 | |
| 测量周期 | 100mS～1S/次（可设置） | |
| 测量范围 | 500,000 Å (铝) | |
| 晶体频率 | 6MHz | |
| 通讯接口 | RS-232/485串行接口 | |
| 显示位数 | 8位LED显示 | |
| 分子泵 | 分子泵抽速 | 1200L/S |
| 额定转速 | 24000rpm | |
| 振动值 | ≦0.1um | |
| 启动时间 | 5min | |
| 停机时间 | 7min | |
| 冷却方式 | 水冷+风冷 | |
| 冷却水温度 | ≦37℃ | |
| 冷却水流速 | 1L/min | |
| 安装方向 | 垂直±5° | |
| 抽气接口 | 150CF | |
| 排气接口 | KF40 | |
| 前级泵 | 抽气速率 | VRD-16 |
| 极限真空 | 1Pa | |
| 供电电源 | AC:220V/50Hz | |
| 电机功率 | 400W | |
| 噪音 | ≦56db | |
| 抽气接口 | KF40 | |
| 排气接口 | KF25 | |
| 阀门 | 闸板阀 | 真空腔体与分子泵间装有闸板阀 |
| 切断阀 | 分子泵与前级之间装有切断阀 | |
| 旁抽阀 | 真空腔体与前级之间装有旁抽阀 | |
| 放气阀 | 真空腔体上装有电磁放气阀 | |
| 整机极限真空 | ≦5×10-4Pa | |
| 测试靶材 | 直径4英寸厚度3mm的镍靶材1块 | |
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