四靶磁控溅射镀膜仪带过渡仓

      本产品四靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸3英寸4英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为500W直流电源和500W射频电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备，四个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要，可以定制其他射频电源和脉冲电源，各型电源均有300W到1000W多种规格可选。

主要特点：
1.  具有主腔室和过渡舱两部分，过渡舱配有磁力推杆，两个舱室之间装有真空闸板阀；
2.  用户可以在主腔室进行溅射工作的同时，在过渡舱装填样品，并进行真空预抽，待主腔室溅射完成后即可将样品通过磁力推杆推入主腔室的样品台。这样的设计能够减少主腔室抽放真空的次数，不仅能有效节省时间，更能保证更好的本地真空，有效提高镀膜质量；
3.  可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
4.  体积小便于操作，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备高真空环境，整个蒸发过程在高真空环境中进行，确保了蒸发原子或分子直接到达基板，避免了空气中杂质的污染。
5.  高真空条件有助于减少蒸发材料的氧化，进一步提升了薄膜的纯度和性能。