桌面型单靶磁控溅射镀膜仪

      本产品是专为实验室桌面级金属薄膜制备需求研发的高性能小型设备，以 “成膜稳定、小巧便携、操作便捷” 为核心定位，兼顾科研精度与桌面级实用性，完美适配高校、科研院所及企业实验室的教学、科研等多样化场景，为各类基础金属薄膜制备提供稳定可靠的硬件支撑。

主要特点：

1. 成膜稳定可靠：搭载桌面级单靶直流溅射系统，配备稳定直流电源与高精度微型真空控制系统，溅射过程平稳无波动，成膜均匀致密、附着力强，可精准保障薄膜厚度与性能一致性；
2. 桌面级紧凑设计：采用小型化集成结构，体积小巧、占用空间小，无需专用大型实验室，可直接放置于桌面使用，适配教学演示、小样品快速镀膜等场景；
3. 便捷易控操作：触控屏操作 + 基础镀膜工艺预设，简化操作流程，降低学习门槛，新手可快速上手，减少人为操作误差，教学演示与实验调试高效便捷；
4. 实验室适配优化：整机结构坚固耐用，维护便捷，运行噪音低，适配各类实验室台面摆放与教学、科研场景；
5. 应用广泛：可制备各类金属导电薄膜、电极薄膜、防护涂层等，广泛应用于半导体教学实验、光学镀膜演示、传感器基础研发、材料表面改性等领域。