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本产品是我公司自主研发的台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜设备，主打台式紧凑设计，机身小巧不占空间，精准适配实验室场景；采用标准化、模块化架构，兼顾高性价比与稳定品质，是实验室薄膜制备的优选装备。其主要用途是可高效制备单层或多层铁电、导电、合金、半导体等各类薄膜，广泛适配多领域实验室实验与研发需求，助力科研工作高效推进。
主要特点：
1. 紧凑省空间，适配实验室场景：台式紧凑型设计，体积小巧、安装便捷，可灵活嵌入各类实验室，有效解决实验室空间紧张的核心痛点，适配多样化实验布局。
2. 定制灵活，适配多元需求：磁控靶可选1/2英寸，精准匹配不同尺寸基板；标配500W直流电源（适配金属薄膜），可定制500W-1000W射频/脉冲电源，气路标配2路高精度质量流量计，可升级至多4路，轻松构建复杂气体环境。
3. 高效省心，高性价比突出：标配先进涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa（可选购其他型号）；电磁阀控气路设计，不关泵即可取放样品，大幅节省实验时间；可选配一体机工控电脑，实现全流程自动化控制，高效便捷，相较于同类设备更具性价比优势。
| 项目 | 明细 | |
| 供电电压 | AC220V，50Hz | |
| 整机功率 | 6KW | |
| 系统真空 | ≦5×10-4Pa | |
| 样品台 | 外形尺寸 | φ150mm |
| 加热温度 | ≦600℃ | |
| 控温精度 | ±1℃ | |
| 可调转速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶枪 | 靶材尺寸 | 直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
| 冷却模式 | 循环水冷 | |
| 水流大小 | 不小于10L/Min | |
| 靶枪数量 | 3 | |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | 直径φ300mm，高度500mm |
| 腔体材质 | SUU304不锈钢 | |
| 观察窗口 | 直径φ100mm | |
| 开启方式 | 顶开式 | |
| 气体控制 | 1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM | |
| 真空系统 | 配分子泵系统1套，气体抽速600L/S | |
| 膜厚测量 | 可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å | |
| 溅射电源 | 配直流电源,功率500W*3 | |
| 控制系统 | 自研专业级控制系统 | |
| 设备尺寸 | 540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H | |
| 设备重量 | 145kg | |
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