小型高真空双源热蒸发镀膜仪

       本产品是专为实验室薄膜制备研发设计的紧凑型高性能设备，以 “小型便捷、双源协同、高真空洁净、精准可控” 为核心定位，兼顾实验室实用性与镀膜精度，体积紧凑、操作简便，完美适配高校、科研院所及企业实验室的薄膜制备场景，为金属、有机物、介质等多种材料的热蒸发镀膜提供稳定可靠的硬件支撑，满足基础研究与小批量样品制备的多样化需求。
主要特点：
1. 小型便捷适配：采用台式紧凑型结构，体积小巧、重量轻便，无需占用过多实验室空间，可直接放置于实验台面，移动灵活、安装简便，无需复杂调试，快速投入实验使用；
2. 双源独立协同：配置两个独立蒸发源，支持独立控温、单独或同时工作，可灵活制备单层、多层复合薄膜，无需频繁更换蒸发材料，大幅提升实验效率；
3. 高真空洁净镀膜：搭载高效高真空系统，真空度可达实验级高标准，有效隔绝空气杂质污染，保障薄膜纯度、致密性与附着力，避免薄膜出现针孔、缺陷；
4. 精准易控操作：简洁触控操作界面，可精准调控蒸发温度、镀膜时间、膜厚等核心参数，支持多组工艺参数存储调用，操作门槛低，减少人为误差，保障实验重复性；
5. 应用场景广泛：可用于金属膜、介质膜、有机薄膜等多种薄膜制备，适配材料科学、微电子、光学、新能源等领域的实验室基础研究与小批量样品制备。