多源真空蒸发镀膜仪

       本产品是专为实验室高阶研发、小型样品精准多源镀膜场景研发的高性能沉积设备，以多源协同调控、真空蒸发镀膜、桌面级便捷设计、PLC智能触控操控为核心定位，作为轻量化多源镀膜解决方案，兼顾沉积专业性、操作便捷性与运行稳定性，依托多源协同调控与真空环境保障优势，适配多种小型样品的复合膜、多层膜、功能膜制备需求，广泛应用于实验室小样研发、小批量试制、半导体器件小型功能薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面改性、科研微型试样多材质镀膜等高阶实验需求，是实验室桌面级、高精度多源真空蒸发镀膜试验的核心设备，为科研实验与高精度小型样品多源复合镀膜制备提供高效、精准、洁净的一体化解决方案。
主要特点：
1. 多源协同调控，适配多元镀膜需求：核心搭载多套独立供电蒸发源，可灵活实现多源交替开启、同步运行、分步调控三种工作模式，满足多样复合镀膜工艺需求；可实现多种不同材质的独立蒸发、同步蒸发或分步蒸发，灵活调控各蒸发源的温度、速率，轻松制备多层膜、复合膜、功能膜，解决双源/单源镀膜无法实现多材质、多功能复合镀膜的痛点，满足实验室高阶科研对多元复合薄膜的制备需求；
2. 真空蒸发技术，膜层质量卓越：采用先进真空蒸发镀膜技术，单蒸发源可稳定输出可达100A镀膜电流，蒸发温度高达1800℃，温控与电流输出性能稳定，适配性强；可分别灵活调控各蒸发源的蒸发参数，实现膜层厚度、均匀性、致密度的精准控制，制备的膜层附着力强、缺陷少、性能稳定，层间结合紧密，有效避免膜层针孔、脱落、分层等缺陷，满足实验室高阶科研对镀膜精度与性能的严苛要求；
3. 桌面级小巧设计，省空间易摆放：专为实验室桌面场景优化设计，机身精简、体积小巧、重量轻便，可直接放置于常规实验室工作台，无需专门预留安装空间，适配各类实验室桌面布局，尤其适合空间有限的高校实验室、小型科研机构，灵活不占地，兼顾多源功能与桌面便捷性；
4. PLC智能触控，操作高效便捷：搭载升级款PLC智能控制系统，全程采用高清触摸屏操作，界面简洁直观、功能分区清晰，支持多源镀膜参数分别记忆、程序预设、故障报警、多蒸发源功率一键调节等功能，可预设多种常用多源真空蒸发镀膜程序，操作流程便捷，无需复杂培训即可快速上手，适配实验室科研人员、专业操作人员；
5. 多场景适配，应用范围广泛：可充分满足各类常见金属材料的蒸镀作业，同时兼容部分非金属材料与功能材料蒸镀需求，适配金属、氧化物、半导体、功能陶瓷等多种材质的小型样品镀膜，广泛应用于实验室小样研发、小批量试制、半导体器件小型功能薄膜制备、石墨烯辅助镀膜、材料表面改性、微型试样多材质镀膜等高阶实验场景，真空环境可有效避免膜层氧化，进一步拓展设备应用价值；
6. 稳定耐用，维护便捷省心：整体结构优化设计，核心多蒸发部件、真空腔体、温控系统选用高品质元器件，运行稳定无故障，抗干扰能力强，可长期连续运行，适配实验室高频次桌面级多源真空蒸发镀膜实验使用；日常维护简单便捷，无需专业人员运维，定期常规检查、清洁腔体与多蒸发部件即可保障设备正常运转，大幅降低实验室设备维护成本。