实验室紫外线臭氧清洗机

所属分类: 样品清洗

产品型号:HYXK-LU

本产品实验室紫外臭氧清洗机,利用185nm/254nm 双波长紫外光产臭氧、强氧化,干法去除硅片、玻璃、光学器件表面分子级有机污染物(油脂、光刻胶残留、指纹),提升表面亲水性与附着力。特点:无化学试剂、无损伤、高效洁净、常压操作、安全环保、适配微纳 / 薄膜 / 光电子样品前处理。

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      本产品实验室紫外线臭氧清洗机是一款紧凑型紫外线臭氧清洁机,专门用于去除基材样品表面各种污染物的系统。它是雾化氧和高活性臭氧的光敏化氧化过程,直接到表面的UV辐射刺激反应,生产挥发性烃产物,通过氧化去除纳米厚度的碳氢化合物导致具有显着润湿性的超洁净表面。
清洁效果是通过用合适的灯照射基板表面引起的,在紫外光谱范围内产生足够的能量。可用于去除石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物。
实验室紫外线臭氧清洗机可常用于扫描探测显微镜的样品,用于清洗原子力显微镜探针,扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料,也能用来改变物体表面的疏水性,有助于部件和表面的化学改性,经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状,削尖的探针有利于提高侧向分辨率。

实验室紫外线臭氧清洗机特性优点:
1.  从基材样品表面去除各种污染物
2.  使用干法工艺以高效方法清洁表面
3.  在254nm至185nm之间的波线上产生能量
4.  有氧气入口,臭氧去除泵,液晶显示单元
5.  样品温度测量功能
6.  用于指示清洁完成的蜂鸣器
7.   用于锁定进样托盘的锁定功能,以避免在操作过程中打开

输入功率 AC 220V±10%, 50/60Hz
紫外灯 紫外灯功率:120W Max.
波长: 254 nm and 185 nm
可达基材尺寸: 150×150 mm ( 6"×6")
腔室和样品台 托盘尺寸: 176mm×168mm
样品输送:滑动
LCD显示器 持续时间: 1 - 99 sec / min / hr
样品温度测量功能
合规 CE认证
保证 一年有限保修,终身支持(耐热玻璃室无保修)
应用 消除SPT、AFM表面的分子污染
固化UV-粘合剂
SAM表面的紫外光图案化
氧化PDMS
蚀刻、图案、锐化
清洁MEMS器件
清洁衬底表面,如Si,Ge,GaAs和所有氧化物晶体衬底
易损零部件 更换灯

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关键词: 实验室紫外线臭氧清洗机