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本产品真空防腐型匀胶机是兼具真空吸附与防腐腔体的旋涂设备，用于晶圆、基片上涂覆光刻胶及酸碱类腐蚀性药液。该设备有真空和常规两种模式操作，可以在内腔抽真空和基片真空吸附两种方式下进行。
主要特点：
1. 真空防腐型匀胶机主机机箱采用PP外壳材料，耐腐蚀易清洁。
2. 内腔采用易清洁、耐腐蚀超高分子材料（HDPE）。
3. 采用工业级别伺服电机，电机设计避免光刻胶等污染物进入电机内部。
4. 排风和抽气系统位计于载片台之底部 （以利于排风效率和匀胶均一性）。
5. 透明可视，耐化学腐蚀的密封盖，可以在旋涂作业时隔绝光阻的溢出及有效隔绝有毒气味的散发。
| 旋涂程序 | 至多可存100组程序，每组100步，每个步骤可控制到0.1秒 |
| 转动速度 | 0-10,000rpm（更高速可选） |
| 旋涂加速度 | 0-50,000rpm/sec（空载） |
| 马达旋涂转速稳定性能误差 | <±1rpm |
| 转速调节精度及重复性 | 1rpm |
| 显示 | 带真空数字显示 |
| 工艺时间设定 | 0-3,000sec/step，时间设置精度：0.1sec |
| 支持晶圆尺寸 | 碎片至200mm（8”圆晶） |
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关键词： 真空防腐型匀胶机
