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本产品主要利用离心涂覆原理将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,该工艺在材料研究领域有着广泛的应用。上盖采用PVC材质,透光性高,可观察匀胶过程。腔体底部有排胶口,废液可通过其收集至设备外的集液瓶里,便于处理。底盘集成式精准加热:基片台(底盘)内置加热模块(加热膜 / 棒),搭配铂电阻与 PID 控温,温度范围通常为室温~200℃,控温精度达 ±1℃,可快速调整胶液粘度、促进流平与预固化,提升膜厚均匀性。
主要特点:
1. 全腔高耐蚀材质:腔体、底盘、滴胶头等与胶液接触部件,采用聚四氟乙烯(PTFE)、聚丙烯(PP)或特氟龙涂层,耐受强酸、强碱及有机溶剂腐蚀,适配光刻胶、PI 液、腐蚀性前驱体等材料。
2. 精密旋涂与多段编程:配备无刷伺服电机,转速范围 0~12000rpm、加速度 100~8000rpm/s 可调,支持多段速度 / 时间编程,适配低至高粘度胶液,成膜厚度误差可控制在 ±1%~3%。
3. 防腐密封与废液处理:采用双层 O 型圈密封,防止腐蚀性气体泄漏;腔体带弧度底与排液管,配合防溅废料罐,可安全收集、导出腐蚀性废液,避免污染与设备侵蚀。
4. 智能控制与安全防护:配触控屏人机界面,可预设匀胶 / 加热曲线,支持转速、温度实时显示;具备基片吸附不足、电机进胶、超温报警与互锁保护,适配半导体、光学、新能源等实验室与小批量生产场景。
5. 底盘集成式精准加热:基片台(底盘)内置加热模块(加热膜 / 棒),搭配铂电阻与 PID 控温,温度范围通常为室温~200℃,控温精度达 ±1℃,可快速调整胶液粘度、促进流平与预固化,提升膜厚均匀性。
| 转速 | 0~3000 RPM |
| 转速分辨率 | 1 RPM |
| 最大旋转时间 | 3000 S |
| 旋转时间分辨率 | 1 S |
| 加速度 | 3000RPM/S |
| 尺寸 | 290mm(W)x360mm(D)x370mm(H) |
| 重量 | 20kg |
| 电源输入 | ac200-230V, 800W |
| 真空输入要求 | 0.06-0.09Mpa,真空流量最小15L/min以上 |
| 真空接口 | φ8mm快拧接口 |
| 匀胶腔体 | 聚四氟材质,支持直径4英寸(100mm)样品 |
| 滴胶方式 | 手动滴胶 |
| 控温方式 | AIP智能控温 |
| 加热温度 | ≤200℃ |
| 加热方式 | 陶瓷加热环 |
| 真空吸盘 | 黄铜镀金,3片,尺寸分别为10mm,25mm,55mm |
| 操作方式 | 7寸高清LCD触控屏 |
| 匀胶曲线 | 每条曲线5段,可储存5条 |
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关键词: 底盘加热防腐型匀胶机
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